ඔක්සිකරණයට පෙර සහ පසු ඇලුමිනියම් මිශ්ර ලෝහයේ ස්කන්ධ ප්රමාණයේ මෙම වෙනස්කම් තිබේද!?
බොහෝ දෙනෙකුට ප්රශ්නයක් තිබේ: "ඔක්සිකරණයෙන් පසු සිදුරු විශාල වන්නේ ඇයි?" මෙය ඔක්සිකරණයේ මූලධර්මයෙන් පැහැදිලි කළ යුතුය, ඔක්සිකරණය ඉසීමෙන් හෝ විද්යුත් ආලේපනයෙන් වෙනස් වේ, ඇලුමිනියම් මිශ්ර ලෝහයේ මතුපිට ඇනෝඩීකරණය සිදු කරනු ලැබේ, එය ඔක්සයිඩ් පටලයක් ජනනය කිරීම සඳහා මතුපිටින් ප්රතික්රියා කිරීමේ ක්රියාවලියකි.
සාමාන්යයෙන් ඔක්සයිඩ් පටලයේ වර්ධන ක්රියාවලියට පහත අංශ දෙක ඇතුළත් වේ: (1) පටලය සෑදීමේ ක්රියාවලිය (2) පටලයේ විද්යුත් රසායනික ද්රාවණ ක්රියාවලිය
විදුලිය ලැබෙන මොහොතේ ඔක්සිජන් සහ ඇලුමිනියම් අතර විශාල බැඳීමක් ඇති අතර ඇලුමිනියම් උපස්ථරය ඉක්මනින් ඝන සිදුරු සහිත නොවන බාධක තට්ටුවක් සාදයි, එහි ඝණකම ටැංකි වෝල්ටීයතාවය මත රඳා පවතී.
ඇලුමිනා පරමාණුවල විශාල පරිමාව නිසා, එය ප්රසාරණය වන අතර, බාධක ස්ථරය අසමාන වන අතර, එහි ප්රතිඵලයක් ලෙස අසමාන ධාරා ව්යාප්තිය, අවතලයේ කුඩා ප්රතිරෝධය, විශාල ධාරා සහ උත්තලයේ ප්රතිවිරුද්ධය ඇති වේ.
විද්යුත් ක්ෂේත්රයේ ක්රියාකාරිත්වය යටතේ කුහරය තුළ H2SO4 හි විද්යුත් රසායනික ද්රාවණය සහ රසායනික ද්රාවණය සිදුවන අතර, කුහරය ක්රමයෙන් සිදුරක් සහ සිදුරු බිත්තියක් බවට පත්වන අතර, බාධක ස්ථරය සිදුරු සහිත ස්ථරයට මාරු වේ.
ලෝහය හෝ මිශ්ර ලෝහය ඇනෝඩය ලෙස භාවිතා කරන අතර, ඔක්සයිඩ් පටලය එහි මතුපිට විද්යුත් විච්ඡේදනයෙන් සෑදී ඇත. ලෝහ ඔක්සයිඩ් පටලය මතුපිට තත්ත්වය සහ ක්රියාකාරිත්වය වෙනස් කරයි, එනම් මතුපිට වර්ණ ගැන්වීම, විඛාදන ප්රතිරෝධය වැඩි දියුණු කිරීම, ඇඳුම් ප්රතිරෝධය සහ දෘඪතාව වැඩි දියුණු කිරීම, ලෝහ මතුපිට ආරක්ෂා කිරීම. ඇලුමිනියම් ඇනෝඩයිසින්, ඇලුමිනියම් සහ එහි මිශ්ර ලෝහය ඇනෝඩය ලෙස අනුරූප ඉලෙක්ට්රෝලය (සල්ෆියුරික් අම්ලය, ක්රෝමික් අම්ලය, ඔක්සලික් අම්ලය ආදිය) තුළ නිශ්චිත තත්වයන් සහ බලපෑමට ලක් වූ ධාරාව, විද්යුත් විච්ඡේදන යටතේ තබා ඇත. ඇනෝඩිසී ඇලුමිනියම් නැතහොත් එහි මිශ්ර ලෝහය ඔක්සිකරණය වී මතුපිට ඇලුමිනියම් ඔක්සයිඩ් තුනී ස්ථරයක් සාදයි, එහි ඝණකම මයික්රෝන 5 සිට 30 දක්වා වන අතර දෘඩ ඇනෝඩික් ඔක්සයිඩ් පටලය මයික්රෝන 25 සිට 150 දක්වා ළඟා විය හැකිය.
මුල් ඇනෝඩීකරණ කටයුතු
ඔක්සයිඩ් පටල සෑදීමේ ක්රියාවලියේදී, මුල් අවධියේදී ක්ෂාර කැටයම් කිරීම සහ ඔප දැමීමේ කටයුතු සිදු කිරීම අවශ්ය වේ.
ක්ෂාර විඛාදනය යනු ඇලුමිනියම් මතුපිට ඇති ස්වාභාවික ඔක්සයිඩ් පටලය (AL2O3) ඉවත් කර මට්ටම් කිරීමේ ක්රියාවලියයි. ක්ෂාර විඛාදනයේ වේගය ක්ෂාර ස්නානයේ සාන්ද්රණය සහ උෂ්ණත්වය මත රඳා පවතින අතර එය ක්ෂාර විඛාදන කාරකයේ (සෝඩියම් ග්ලූකෝනේට්) මාත්රාව සහ ඇලුමිනියම් අයනවල අන්තර්ගතය (AL3+) මත දැඩි ලෙස රඳා පවතී. ඇලුමිනියම් මතුපිට ගුණාත්මකභාවය, හැඟීම, පැතලි බව සහ ඔක්සයිඩ් පටල විද්යුත් ආලේපනය, ක්ෂාර විඛාදනය යන සියල්ල තීරණාත්මක කාර්යභාරයක් ඉටු කරයි.
ක්ෂාර කැටයම් කිරීමේ අරමුණ වන්නේ උණුසුම් වැඩ කිරීමෙන් හෝ ස්වාභාවික තත්වයන් යටතේ ඇලුමිනියම් කොටස් මතුපිට ඇති ඔක්සිකරණය වූ පටලය මෙන්ම කිරි නිෂ්පාදනයේදී සහ නිෂ්පාදන අච්චු කිරීමේදී යොදන අවශේෂ තෙල් ඉවත් කිරීමයි. මෙම කාර්යය සිදු කරන්නේද යන්න ලබා ගන්නා ඇනෝඩික් ඔක්සයිඩ් පටලයේ ගුණාත්මකභාවය සඳහා යතුර හොඳින් තීරණය කරයි. අවධානය යොමු කළ යුතු ප්රධාන කරුණු පහත දැක්වේ. ක්ෂාර විඛාදනයට පෙර හොඳින් පරීක්ෂා කර බලන්න, ක්ෂාර විඛාදන ප්රතිකාරයට සුදුසු නොවන බව කල්තියා තෝරා ගත යුතුය. ක්ෂාර කැටයම් කිරීමට පෙර පූර්ව ප්රතිකාර ක්රමය සුදුසු සහ සම්පූර්ණ විය යුතුය. ක්ෂාර කැටයම් කිරීමේ ක්රියාකාරිත්වයේ තාක්ෂණික කොන්දේසි නිවැරදිව ප්රගුණ කරන්න.
එය ඔප දැමීමේ යන්ත්රය මත සිදු කරනු ලැබේ, ඇලුමිනියම් පැතිකඩ නිතිපතා වැඩ මේසය මත තබා ඇති අතර, අධිවේගී භ්රමණය වන ඔප දැමීමේ රෝදය මඟින් මතුපිට ස්පර්ශ කර අතුල්ලනු ලැබේ, එවිට මතුපිට සුමට හා පැතලි වන අතර දර්පණ ආචරණය පවා ලබා ගත හැකිය. නිස්සාරණ ඉරි ඉවත් කිරීම සඳහා නිෂ්පාදනයේදී ඔප දැමීම බොහෝ විට භාවිතා වේ, එබැවින් එය මෙම අවස්ථාවේදී "යාන්ත්රික අතුගා දැමීම" ලෙසද හැඳින්වේ.
සාරාංශගත කරන්න
ඇලුමිනියම් මිශ්ර ලෝහයේ ප්රමාණය වෙනස් කිරීම ඔක්සිකරණ ක්රමය, කාලය සහ පූර්ව ප්රතිකාර ක්රියාවලිය මත පදනම්ව තෝරා ගත හැකිය.
කුඩා ප්රමාණය: සම්පූර්ණ ඔක්සිකරණ ක්රියාවලියේදී, ඇලුමිනියම් මිශ්ර ලෝහය සල්ෆියුරික් අම්ල ද්රාවණයේ පොඟවා ගැනීම ද අවශ්ය වේ. මෙම මෙහෙයුම් මාලාව ඇලුමිනියම් මිශ්ර ලෝහයේ විඛාදනයට හේතු වනු ඇත. එබැවින් අපි නැවත ඇලුමිනියම් මිශ්ර ලෝහ නිෂ්පාදනය දකින විට, විඛාදනය හේතුවෙන් එහි ප්රමාණය කුඩා වනු ඇත.
විශාල ප්රමාණය: දැඩි ඔක්සිකරණය සිදු කිරීම සඳහා, ඔබට ඇලුමිනියම් මිශ්ර ලෝහයේ සමස්ත ප්රමාණය වැඩි කළ හැකිය.
ඇලුමිනියම් මිශ්ර ලෝහයේ ගුණාත්මකභාවය බොහෝ විට වඩාත් පැහැදිලි වැඩිවීමක් පෙන්නුම් කරයි.